phone catalog search phone arr-down arr-up alert arr-prev arr-next errortext notetext arr-right catalog-download zoom
+7 800 100 77 23
Войти

Установка экспонирования

Установка двойного экспонирования УЭ-600
Установка экспонирования УЭ-400-В с верхним расположением УФ ламп
Установка экспонирования УЭ-400-Н с нижними расположением УФ ламп
Система менеджмента качества сертифицирована (ISO 9001:2008)

Назначение

Установка предназначена для экспонирования сетчатых трафаретных форм и подложек для плат. Экспонирование осуществляется с помощью УФ лампы.

Отрасль применения

  • Керамическая промышленность
  • Полиграфическая промышленность
  • Электронная промышленность
  • Машиностроительная промышленность
  • Автомобильная промышленность
Технические характеристики

Основные технические характеристики УЭ-600

Технология экспонирования

С верхней и нижней засветкой

Рабочая область, мм

600х400

Источник УФ излучения

Ртутные галогеновые лампы

Диапазон длин волн, нм

320-450

Равномерность источника света

85%

Время экспонирования, с

1-1800

Толщина заготовки, мм

0,5-2,5

Освещенность поля экспонирования, лк

50 000

Электрическая мощность, кВт

3

Габаритные размеры, ДхШхВ, мм

1950х750х1450 (2000 с поворотным столиком)

Масса установки, кг

500


Установка экспонирования с верхним расположением УФ ламп:

Основные технические характеристики УЭ-400-В

Технология экспонирования

С верхней засветкой

Рабочая область, мм

270х150х15

Источник УФ излучения

газоразрядные ртутно-кварцевые

Расстояние от ламп до поля экспонирования, мм

350±100

Время экспонирования, с

1-1800

Освещенность поля экспонирования, лк

50 000

Электрическая мощность, кВт

2

Габаритные размеры, ДхШхВ, мм

675х635х1675

Масса установки, не более, кг

200




Установка экспонирования с нижним расположением УФ ламп:

Основные технические характеристики УЭ-400-В

Технология экспонирования

С нижней засветкой

Рабочая область, мм

400х400х20

Разрежение в вакуумной раме

от -0,2 до -0,3 кг/см²

Источник УФ излучения

газоразрядные ртутно-кварцевые

Время экспонирования, с

1-1800

Освещенность поля экспонирования, лк

40 000

Электрическая мощность, кВт

2

Габаритные размеры, ДхШхВ, мм

755х560х1145

Масса установки, не более, кг

110



Конструктивные особенности
  • Установка двустороннего экспонирования печатных плат обеспечивает высокую производительность и удобство работы. Двойная поворотная рама позволяет оператору установить и зафиксировать следующую плату, в момент экспонирования первой – обеспечивается непрерывная работа. Рамки могут быть изготовлены различных размеров в зависимости от размера заготовок (плат).
  • Двухстороннее экспонирование повышает скорость и качество полученных изделий.
  • Высокая прецизионность и точность позиционирования, большое рабочее поле.
  • Установка полностью автоматизирована. Все, что нужно сделать оператору, – это выбрать подходящую предустановку экспозиции и нажать СТАРТ. Весь процесс экспонирования происходит автоматически - включение вакуума, настройка времени экспонирования скорости охлаждения и других параметров. Точная и удобная система настроек гарантирует повторяемость полученного результата.
  • УФ излучение оказывает быстрое воздействие на прямые, капиллярные и непрямые эмульсии. Они особенно быстро работают с фотополимерными эмульсиями, которые можно экспонировать.
  • В режиме вакуумного контакта любой оставшийся зазор между фотошаблоном и пластиной сводится к минимуму с помощью создания вакуума в камере. Это позволяет добиться лучшего возможного разрешения во всех режимах экспонирования.
  • Установка имеет три уровня интенсивности излучения: низкая, средняя и высокая:
    • Режим средней интенсивности идеально подходит для экспонирования стандартных фоторезистов. Режим низкой интенсивности дает возможность производить более точную настройку экспонирования для чувствительных резистов, требующих короткого времени экспонирования. Режим высокой интенсивности предназначен для экспонирования сухой пленочной паяльной маски.
  • На установке можно подобрать оптимальные режимы экспонирования различных марок и паяльных масок.
  • Возможность управлять системой охлаждения позволяет достичь высокого качества получаемой продукции.
  • Использование этой установки удобна для многономенклатурного производства.
  • Высокая эффективность преобразования электрической энергии в эффективную длину волны обеспечивает исключительно малое время экспозиции при значительной экономии электроэнергии.
  • Вакуумная система надежно фиксирует заготовку в раме.
  • Лампы расположены вместе со специальными отражателями сверху и снизу камеры экспонирования и обеспечивают высокую равномерность излучения по всей площади рамы.
  • Простой и понятный пульт управления позволяет легко задавать необходимые настройки установки;
  • Индивидуальные настройки для верхней и нижней УФ лампы экспонирования.
  • Прочный металлический корпус машины с полным покрытием предотвращает утечку ультрафиолетового излучения.
  • Воздухозаборники по всему периметру обеспечивают комплексную вытяжку с высокой эффективностью и скоростью.

Установка экспонирования с верхним расположением УФ ламп:

Конструктивные особенности:

  • Универсальность. Установка с верхним расположением УФ ламп имеет регулировку высоты ламп, что позволяет адаптировать экспонирование под различные типы материалов и толщины. Это делает ее универсальным инструментом для обработки различных материалов.
  • Удобство использования. Установка имеет простую и удобную конструкцию, что облегчает ее использование и обслуживание. Установка оснащена автоматической системой контроля времени экспонирования, что делает процесс более эффективным и точным.

Установка экспонирования с нижним расположением УФ ламп:

Конструктивные особенности:

  • Простота использования и удобство обслуживания за счет нижнего расположения УФ ламп.
  • Мобильность конструкции. Установка не занимает много места и экономит пространство, что будет хорошо производств с малой площадью помещений.
  • Смонтированный в раме установки вакуумный насос, позволяет полностью и равномерно прижимать фотошаблон к заготовке.
Принцип работы

Принцип работы установки основан на использовании светочувствительных материалов, которые реагируют на ультрафиолетовое излучение с точной фиксацией шаблона на поверхности печатной формы для передачи изображения. Данный принцип работы, позволяет создавать точные и высококачественные проводящие дорожки, а также компоненты на печатных платах.

Печатная форма размещается на установке таким образом, чтобы шаблон плотно прилегал к поверхности платы. Далее установка подает ультрафиолетовое (УФ) излучение на печатную форму через шаблон. УФ-лампа генерирует излучение определенной длины волны, которое активирует светочувствительный материал (фоторезист). Эта активация происходит только там, где излучение проникает через прозрачные области шаблона.

После УФ излучений светочувствительный материал фиксируется, чтобы создать изображение проводящих дорожек или компонентов на печатной форме. Это может быть выполнено путем термической обработки или промывки печатной формы в определенном растворе.

Трафаретный принтер ПТП-300

Предназначение установки двухстороннего экспонирования

Установка предназначена для двухстороннего экспонирования печатных форм с использованием пленочного фотошаблона и сетчатых трафаретов. Для обеспечения плотного контакта между фотошаблоном и фоторезистом применяется откачка воздуха внутри загрузочной рамы.


Установка экспонирования с верхним расположением УФ ламп:

Принцип работы:

УФ лампы устанавливаются в верхней части установки и направлены вниз на обрабатываемую поверхность. Обрабатываемый предмет или материал помещается на нижней подложке. Далее подложка задвигается и включаются УФ лампы. УФ излучение активирует светочувствительные материалы, такие как фотополимеры или фоторезисты.


Установка экспонирования с нижним расположением УФ ламп:

Принцип работы:

УФ лампы устанавливаются в нижней части установки и направлены вверх на обрабатываемую поверхность. Обрабатываемый предмет или материал помещается на верхней подложке и прижимается верхней крышкой, после чего включаются УФ лампы.

Установка предназначена для экспонирования сетчатых трафаретных форм и подложек для плат. Экспонирование осуществляется с помощью УФ лампы.

< Вернуться в каталог